1. 發(fā)熱設備（如烤箱、電機）

發(fā)熱會導致局部熱氣流上升（垂直層流）或橫向偏移（水平層流），干擾層流穩(wěn)定性。

調整：間距需比常規(guī)值增加 20%-30%（如常規(guī)間距 500mm，發(fā)熱設備需 600-650mm），同時確保設備與回風口距離≥1500mm，加速散熱氣流排出。

2. 產塵設備（如切割、研磨設備）

產塵設備需通過氣流快速帶走顆粒，避免顆粒擴散。

調整：設備周圍間距需放大至常規(guī)值的 1.5 倍，且沿氣流方向（垂直層流中為下方，水平層流中為下游）需預留 “緩沖帶”（≥1000mm），確保顆粒被氣流帶走，不擴散至其他區(qū)域。